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膜厚測量儀是半導體、光學鍍膜、材料科學等領域的關鍵檢測設備，其測量精度直接影響產(chǎn)品質量與工藝優(yōu)化。本文以常見接觸式（如臺階儀）與非接觸式（如光譜橢偏儀）儀器為例，系統(tǒng)梳理從儀器校準到數(shù)據(jù)處理的完整操作步驟，助力用戶高效獲取可靠數(shù)據(jù)。一、操作...
在加工行業(yè)當中，工人們經(jīng)常使用到的一類測量儀器是膜厚儀，膜厚測量儀能夠對各類材料進行厚度的準確測量，從而能夠給加工企業(yè)帶來很好的參考建議。讓它們能夠做出詳細判斷和考量，以此來有效避免生產(chǎn)后期的大量返工。而用戶在使用膜厚儀的時候一定要特別小心謹慎，不能夠過于馬虎大意，只有這樣才能夠獲得更為準確的測量結果。那我們該怎樣正確使用膜厚測量儀呢？這是一個值得深刻進行探討的問題，下面就由測量專家來為大家進行解惑吧。第1、我們要選擇金屬磁性及表面粗糙度與試件基體接近的標準片來予以測量，這樣...
隔振臺采用了剛性彈簧和負剛度機制，達到極低凈垂向剛度，而凈符合支持能力則未受到絲毫影響。水平振動阻隔效果由梁柱與垂直運動隔離器串聯(lián)實現(xiàn)。只要調整至1/2Hz固定頻率，該工作站就能實現(xiàn)2Hz下93%的阻隔效率，5Hz下99%的阻隔效率和10Hz下99.7%的阻隔效率。MinusK垂直隔離器，附帶KineticSystem動力系統(tǒng)，更為您帶來更好的使用體驗和額外的底架空間。隔振臺主要優(yōu)勢：1、小的厚度，輕的質量；2、大大提高設備性能及質量；3、易于集成到工作站中；4、沒有調試要求...
光刻技術實際上是一種精密表面加工技術，它借助于一定波長的激光光源以及選擇性的化學腐蝕和刻蝕技術把設計的微納圖案轉移到硅基板上。但是隨著集成電路功能和密度的提升傳統(tǒng)的光刻技術已經(jīng)難以滿足當前對線寬越來越小的需求。但是打破衍射極限的大型光刻設備又極其昂貴。為了擺脫光學衍射極限和克服高成本的限制，一種操作簡單，成本低廉的納米壓印技術產(chǎn)生了。納米壓印的技術核心是充分利用機械能將剛性模板上的圖案轉到抗蝕劑上，之后再借助溶脫、剝離、刻蝕等將圖案轉移到基板上。到目前為止壓印技術已經(jīng)發(fā)展出來...
白光干涉儀目前在3D檢測領域是精度高的測量儀器之一，在同等系統(tǒng)放大倍率下檢測精度和重復精度都高于共聚焦顯微鏡和聚焦成像顯微鏡，在一些納米級和亞納米級的超精密加工領域，除了白光干涉儀，其它的儀器無法達到其測量精度要求。儀器的測量原理：本儀器是利用光學干涉原理研制開發(fā)的超精密表面輪廓測量儀器。照明光束經(jīng)半反半透分光鏡分威兩束光，分別投射到樣品表面和參考鏡表面。從兩個表面反射的兩束光再次通過分光鏡后合成一束光，并由成像系統(tǒng)在CCD相機感光面形成兩個疊加的像。由于兩束光相互干涉，在C...
接觸式光刻機是一種用于信息科學與系統(tǒng)科學、能源科學技術、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，于2016年7月12日啟用。接觸式光刻機的使用原理：其實在我國對于接觸式光刻機，曝光時掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優(yōu)點是可以使用價格較低的設備制造出較小的特征尺寸。我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為0.5gm左右。該設備的掩模版包括了要復制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一個由手動控制的臺子上，臺子...