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晶圓缺陷檢測(cè)對(duì)于半導(dǎo)體晶圓的制造至關(guān)重要，但依賴手動(dòng)檢測(cè)既費(fèi)時(shí)又昂貴，并且可能導(dǎo)致良率下降。對(duì)此問題的強(qiáng)大自動(dòng)化解決方案至關(guān)重要，因?yàn)閷H向用戶顯示可疑區(qū)域，從而節(jié)省寶貴的時(shí)間。缺陷檢測(cè)設(shè)備具有挑戰(zhàn)性，因?yàn)榭赡艿娜毕輿]有精確的特征，它們可能包括顆粒、開路、線間短路或其他問題。缺陷可能屬于晶片背景或其圖案，并且可能占主導(dǎo)地位或幾乎不明顯。這種多樣性使得基于一些先驗(yàn)特征或檢測(cè)訓(xùn)練數(shù)據(jù)庫執(zhí)行模板匹配變得非常困難，因此鼓勵(lì)開發(fā)無監(jiān)督的數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)方法。檢測(cè)原理：晶圓缺陷檢測(cè)采用工業(yè)相機(jī)將...

三維形貌儀是利用光學(xué)干涉原理研制開發(fā)的超精密表面輪廓測(cè)量儀器。照明光束經(jīng)半反半透分光鏡分成兩束光，分別投射到樣品表面和參考鏡表面。從兩個(gè)表面反射的兩束光再次通過分光鏡后合成一束光，并由成像系統(tǒng)在CCD相機(jī)感光面形成兩個(gè)疊加的像。由于兩束光相互干涉，在CCD相機(jī)感光面會(huì)觀察到明暗相間的干涉條紋。干涉條紋的亮度取決于兩束光的光程差，根據(jù)白光干涉條紋明暗度以及干涉條文出現(xiàn)的位置解析出被測(cè)樣品的相對(duì)高度。本產(chǎn)品適用于各種產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷...

硬化涂層膜厚儀是一種便攜式雙基(鐵、鋁)測(cè)量儀，它能快速、無損傷、精密地進(jìn)行涂、鍍層厚度的測(cè)量。既可用于實(shí)驗(yàn)室中的精密測(cè)量，也可用于工程現(xiàn)場(chǎng)廣泛地應(yīng)用在金屬制造業(yè)、化工業(yè)、航空航天、科研開發(fā)等領(lǐng)域，是企業(yè)保證產(chǎn)品質(zhì)量、商檢測(cè)控*的檢測(cè)儀器。測(cè)量原理：硬化涂層膜厚儀采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法，可無損地測(cè)量磁性金屬基體（如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等）上非磁性覆蓋層的厚度（如鋁、鉻、銅、琺瑯、橡膠、油漆等）及非磁性金屬基體（如銅、鋁、鋅、錫等）上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度（如：琺瑯、橡膠、...

翹曲度測(cè)量儀適用于普通測(cè)量工具無法測(cè)量的領(lǐng)埔，如尺寸微小的鐘表、彈簧、橡膠、礦石珠寶、半導(dǎo)體、五金、模具、電子行業(yè)、精細(xì)加工、不規(guī)則工件等到進(jìn)行測(cè)量。還可以繪制簡單的圖形，繪制測(cè)量畸形、復(fù)雜和零件重疊等不規(guī)則的工件，檢查零件的表面糙度和檢查復(fù)雜的電路板線路。產(chǎn)品功能：新建文件、打開文件、保存文件、設(shè)定比例尺、系統(tǒng)校正、測(cè)量角度、測(cè)量線段長度、測(cè)量距離，測(cè)量原弧及兩個(gè)圓偏心、畫線、圓、弧及線段之垂直線，水平線，修改線段、標(biāo)注尺寸、自動(dòng)檢測(cè)、自動(dòng)尋邊，可將當(dāng)前影像拍下，以圖片格式...

硅片厚度測(cè)量儀采用的這種紅外干涉技術(shù)具有*優(yōu)勢(shì)，諸多材料例如，Si，GaAs，InP，SiC，玻璃，石英以及其他聚合物在紅外光束下都是透明的，非常容易測(cè)量，標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)量空間分辨率可達(dá)50微米，更小的測(cè)量點(diǎn)也可以做到。測(cè)試原理：硅片厚度測(cè)量儀采用機(jī)械接觸式測(cè)量原理，截取一定尺寸的式樣；通過控制面板按鈕，調(diào)節(jié)測(cè)量頭降落于式樣之上；依靠兩個(gè)接觸面產(chǎn)生的壓力和兩接觸面積通過傳感器測(cè)得的數(shù)值測(cè)量材料的厚度。產(chǎn)品特點(diǎn)：1、硅片厚度測(cè)量儀支持自動(dòng)和手動(dòng)兩種測(cè)量模式，方便用戶自由選擇。2、配置...