現(xiàn)在光刻機與我們的生活息息相關，我們用的手機，電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開光刻機。如今的世界是一個信息社會，各種各樣的信息流在世界流動。而光刻機的技術是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。
平版印刷術用于在用戶不希望影響其整個樣品的工藝步驟（主要是沉積或蝕刻）之前對樣品進行構圖。在蝕刻之前，使用光刻技術來形成抗蝕劑保護層，該保護層僅將材料保留在存在抗蝕劑的位置（負圖案）。在使用沉積光刻進行剝離之前，在沉積之后剝離抗蝕劑，僅留下沒有抗蝕劑的材料（正圖案）。
典型過程：
1、從干凈的基材和掩模版開始。如果掩模或基板上有顆粒，則可能導致抗蝕劑覆蓋率不均勻，從而導致許多器件出現(xiàn)錯誤；
2、脫水烘烤樣品。這樣可以輕除表面上的水分，并改善與表面的附著力。通常，當表面仍然有水分時，抗蝕劑會在烘烤過程中起泡；
3、旋轉抗蝕劑（通常在助粘劑之后）。這需要均勻地涂覆表面，否則曝光將不一致；
4、輕輕烘烤抗蝕劑，這會將抗蝕劑中的溶劑輕除掉。過多的軟烘烤會降低抗蝕劑的靈敏度；
5、暴露抗蝕劑（請參閱前面的部分）；
6、在某些抗蝕劑中，需要后曝光烘烤（PEB）。這將使酸在抗蝕劑中分布，從而破壞鍵。這樣可以使抗蝕劑的側壁輪廓更直；
7、顯影抗蝕劑。顯影劑的類型取決于抗蝕劑和基底。與手動方法相比，自動顯影系統(tǒng)將具有更好的重現(xiàn)性；
8、有些抗蝕劑需要硬烤，而另一些則不需要。確保您遵循所使用抗蝕劑的推薦做法。
